KIST, 햇빛만으로 깨끗해지는 수처리 분리막 개발

한국과학기술연구원(KIST)이 햇빛을 쐬면 스스로 세척되는 분리막 소재를 개발했다고 10일 밝혔다.

KIST 물지원순환연구센터 변지혜 박사와 홍석원 단장 연구팀이 개발한 이번 기술을 활용하면 10분 가량만 빛을 쐬주면 다시 분리막 사용이 가능해 관리 비용이 상당히 절감될 것으로 보인다.

연구진은 우선 가시광선에 반응하는 광촉매를 수처리 분리막 표면에 단단하게 고정했다. 이렇게 표면처리를 거친 분리막은 가시광선을 쐬었을 때 표면의 오염 물질을 완전하게 분해해 손쉽게 분리막을 세척할 수 있었다.

특히 분리막 표면에 쌓인 고농도 대장균 및 황색포도상구균 같은 박테리아와 박테리오파지 등의 바이러스를 최대 1시간 만에 99.9% 제거하는 우수한 성능을 나타냈다.

개발된 분리막은 미생물뿐만 아니라 염료 등의 유기 오염물질과 중금속까지도 처리할 수 있었고, 10회 이상 반복 테스트에도 성능이 유지되는 장점을 가졌다.

KIST 변지혜 박사는 “본 연구는 자연광을 이용하는 광촉매 기술과 수처리 분리막 기술을 결합하여 수처리 공정의 효율이 향상될 수 있음을 보여줬다”며 “이러한 연구결과를 바탕으로 수처리 분리막 시장을 선도할 수 있는 차세대 분리막 신소재 개발에 힘쓸 것”이라고 말했다.